新聞中心
News Center小(xiao)型蒸(zheng)(zheng)(zheng)鍍(du)儀(yi)在材(cai)料(liao)科學和(he)(he)(he)工(gong)程(cheng)領域(yu)中發揮著重要作用(yong)(yong)，廣泛應用(yong)(yong)于微電(dian)子(zi)(zi)、光電(dian)子(zi)(zi)、材(cai)料(liao)科學等(deng)領域(yu)。熱(re)(re)蒸(zheng)(zheng)(zheng)發是(shi)一種將固(gu)態材(cai)料(liao)迅速加熱(re)(re)并使其轉變(bian)為蒸(zheng)(zheng)(zheng)汽的過(guo)程(cheng)。固(gu)態材(cai)料(liao)(如(ru)金屬(shu)或非(fei)金屬(shu))被放(fang)置(zhi)在加熱(re)(re)源中，當加熱(re)(re)源加熱(re)(re)到一定溫度時(shi)，該材(cai)料(liao)開始(shi)蒸(zheng)(zheng)(zheng)發。蒸(zheng)(zheng)(zheng)發的材(cai)料(liao)蒸(zheng)(zheng)(zheng)汽在真空環境中自(zi)由(you)擴散(san)，并沉積(ji)到待鍍(du)物(wu)表面形成薄膜。小(xiao)型蒸(zheng)(zheng)(zheng)鍍(du)儀(yi)常見(jian)的應用(yong)(yong)領域(yu)：1.微電(dian)子(zi)(zi)工(gong)業(ye)：在微電(dian)子(zi)(zi)工(gong)業(ye)中用(yong)(yong)于制(zhi)備(bei)集(ji)成電(dian)路、半導(dao)體芯片和(he)(he)(he)顯示(shi)器件等(deng)。通過(guo)在基板(ban)上沉積(ji)金屬(shu)薄膜或半導(dao)體材(cai)料(liao)，可以實現電(dian)路的連接(jie)和(he)(he)(he)器件性能的改善(shan)。2.光電(dian)子(zi)(zi)工(gong)業(ye)...
【新品發(fa)布】——突破極限，1000°高(gao)溫探針(zhen)臺(tai)震撼上市！我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高(gao)溫探針(zhen)臺(tai)。這款產品是(shi)我們經過不懈努(nu)力和持續創新的成(cheng)果，將為您在高(gao)溫實驗(yan)領域帶來了全新的體驗(yan)。1000度(du)高(gao)溫真(zhen)空探針(zhen)臺(tai)（High-TemperatureVacuumProbeStation）主要(yao)應用(yong)于半導體、材料(liao)(liao)科(ke)學、納米技(ji)術(shu)、光電子、薄膜(mo)技(ji)術(shu)等領域，具有以下用(yong)途：1.半導體器件(jian)測(ce)試(shi)與(yu)表征：用(yong)于不同溫度(du)下的半導體料(liao)(liao)件(jian)、電子器件(jian)和光電子器件(jian)的性能測(ce)試(shi)和分(fen)析。2.材料(liao)(liao)性能表征：研究和測(ce)試(shi)...
小型濺(jian)(jian)射(she)(she)儀(yi)是(shi)種常(chang)見(jian)的(de)(de)表(biao)面處理(li)設備，其(qi)(qi)(qi)原(yuan)理(li)是(shi)利用高能離(li)子束(shu)轟擊(ji)固體材料，以改變其(qi)(qi)(qi)表(biao)面性質(zhi)。主(zhu)要(yao)由濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)、工作(zuo)(zuo)室(shi)、真空(kong)系(xi)統(tong)(tong)、控制系(xi)統(tong)(tong)等組(zu)成(cheng)。其(qi)(qi)(qi)中關鍵(jian)的(de)(de)部(bu)分(fen)是(shi)濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)和工作(zuo)(zuo)室(shi)。濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材料是(shi)由所(suo)需要(yao)改變其(qi)(qi)(qi)表(biao)面性質(zhi)的(de)(de)物質(zhi)組(zu)成(cheng)，如金屬、陶瓷(ci)等。工作(zuo)(zuo)室(shi)是(shi)一個真空(kong)環境，用于避免氧氣(qi)、水蒸氣(qi)等對濺(jian)(jian)射(she)(she)過(guo)程(cheng)的(de)(de)干擾。在(zai)(zai)工作(zuo)(zuo)時，首先需要(yao)將工作(zuo)(zuo)室(shi)抽(chou)成(cheng)高真空(kong)狀態。通過(guo)真空(kong)泵(beng)抽(chou)取工作(zuo)(zuo)室(shi)內(nei)的(de)(de)氣(qi)體，減(jian)少(shao)對離(li)子束(shu)的(de)(de)干擾。接下來，將濺(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)放(fang)置在(zai)(zai)工作(zuo)(zuo)室(shi)內(nei)，并將需要(yao)處理(li)的(de)(de)物體(如基板)放(fang)在(zai)(zai)靶(ba)(ba)的(de)(de)正對方向。然后(hou)，靶(ba)(ba)與工作(zuo)(zuo)室(shi)中...
等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)刻(ke)蝕機是(shi)通過將氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)放(fang)(fang)電(dian)產生等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)，利用(yong)等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)中(zhong)的(de)(de)能量來刺激表(biao)面上的(de)(de)分子(zi)(zi)(zi)(zi)和原(yuan)子(zi)(zi)(zi)(zi)，從而實現(xian)清洗和刻(ke)蝕的(de)(de)。具體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)來說，主要包括以(yi)下幾個部分：真(zhen)空(kong)腔(qiang)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)、氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)供應(ying)系(xi)統(tong)、放(fang)(fang)電(dian)系(xi)統(tong)和噴射系(xi)統(tong)。首先，在真(zhen)空(kong)腔(qiang)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)內建立高度(du)的(de)(de)真(zhen)空(kong)環境，這(zhe)(zhe)是(shi)因為等(deng)離子(zi)(zi)(zi)(zi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)只能在真(zhen)空(kong)環境中(zhong)穩定存(cun)在，而且真(zhen)空(kong)環境可(ke)以(yi)減少雜質對刻(ke)蝕過程的(de)(de)干擾。然后，氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)供應(ying)系(xi)統(tong)會向真(zhen)空(kong)腔(qiang)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)內注入(ru)一定比例的(de)(de)工(gong)作氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)和反應(ying)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)。工(gong)作氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)一般(ban)是(shi)沒有參與(yu)反應(ying)的(de)(de)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)，例如氬(ya)氣(qi)(qi)或氮氣(qi)(qi)，而反應(ying)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)則(ze)是(shi)用(yong)于反應(ying)的(de)(de)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)(ti)(ti)(ti)，例如氟元(yuan)(yuan)素或氯元(yuan)(yuan)素。這(zhe)(zhe)樣(yang)的(de)(de)...
“2023全國(guo)天線(xian)年會(hui)(hui)”將(jiang)于2023年8月20日(ri)至23日(ri)在(zai)哈爾濱召開，會(hui)(hui)議的目(mu)的是為天線(xian)技(ji)術(shu)(shu)領域的專家(jia)學(xue)者(zhe)、研(yan)究(jiu)生、工程技(ji)術(shu)(shu)及管理人員提供一個(ge)交流學(xue)術(shu)(shu)、科研(yan)成果及技(ji)術(shu)(shu)最新發展(zhan)的平臺(tai)。熱忱(chen)歡迎從事天線(xian)理論(lun)研(yan)究(jiu)、技(ji)術(shu)(shu)開發、裝(zhuang)備生產與應用的專家(jia)學(xue)者(zhe)、研(yan)究(jiu)生和技(ji)術(shu)(shu)人員積極投稿(gao)并參會(hui)(hui)。會(hui)(hui)議期間將(jiang)同(tong)時舉(ju)辦天線(xian)、微波儀器與設備、電磁兼容(rong)、電磁場仿真軟件等產品(pin)的展(zhan)覽(lan)。本次我們展(zhan)覽(lan)的產品(pin)是小型直(zhi)流磁控濺射儀和一英寸真空探針臺(tai)。
氣體(ti)(ti)溫度(du)(du)(du)(du)(du)控制(zhi)(zhi)(zhi)儀是(shi)用(yong)(yong)于(yu)控制(zhi)(zhi)(zhi)氣體(ti)(ti)溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)設(she)備。它可以測量(liang)氣體(ti)(ti)的(de)(de)(de)溫度(du)(du)(du)(du)(du)，并根據(ju)設(she)定的(de)(de)(de)溫度(du)(du)(du)(du)(du)來(lai)(lai)控制(zhi)(zhi)(zhi)加熱或(huo)(huo)制(zhi)(zhi)(zhi)冷(leng)設(she)備，從而實現對氣體(ti)(ti)溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)準確控制(zhi)(zhi)(zhi)。主要包括(kuo)傳(chuan)感(gan)器(qi)(qi)(qi)、控制(zhi)(zhi)(zhi)器(qi)(qi)(qi)和(he)執行(xing)(xing)器(qi)(qi)(qi)三(san)部分。傳(chuan)感(gan)器(qi)(qi)(qi)是(shi)用(yong)(yong)于(yu)測量(liang)氣體(ti)(ti)溫度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)關鍵組件。傳(chuan)感(gan)器(qi)(qi)(qi)一般(ban)采用(yong)(yong)熱電偶或(huo)(huo)熱電阻(zu)等技術(shu)來(lai)(lai)測量(liang)氣體(ti)(ti)的(de)(de)(de)溫度(du)(du)(du)(du)(du)。它們都是(shi)基于(yu)物質的(de)(de)(de)溫度(du)(du)(du)(du)(du)特性來(lai)(lai)工(gong)作的(de)(de)(de)。當氣體(ti)(ti)溫度(du)(du)(du)(du)(du)發生變化時，傳(chuan)感(gan)器(qi)(qi)(qi)會產生相應的(de)(de)(de)電信號。控制(zhi)(zhi)(zhi)器(qi)(qi)(qi)是(shi)用(yong)(yong)于(yu)處理傳(chuan)感(gan)器(qi)(qi)(qi)信號并根據(ju)設(she)定的(de)(de)(de)溫度(du)(du)(du)(du)(du)來(lai)(lai)控制(zhi)(zhi)(zhi)執行(xing)(xing)器(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)部件。控制(zhi)(zhi)(zhi)器(qi)(qi)(qi)一般(ban)采用(yong)(yong)微處理器(qi)(qi)(qi)或(huo)(huo)PLC等技術(shu)來(lai)(lai)實現。它通過(guo)對傳(chuan)感(gan)器(qi)(qi)(qi)信號進行(xing)(xing)處理和(he)比較，...
高(gao)低溫(wen)(wen)鼓泡罐是(shi)種常見的(de)實驗儀(yi)器，主要(yao)作(zuo)用(yong)是(shi)控(kong)制溶(rong)液的(de)溫(wen)(wen)度(du)，使反應(ying)物在(zai)(zai)適宜的(de)溫(wen)(wen)度(du)下發生反應(ying)，提高(gao)反應(ying)效率。利用(yong)外部的(de)加(jia)熱(re)和(he)冷(leng)卻(que)裝置來(lai)(lai)(lai)調節罐內(nei)(nei)的(de)溫(wen)(wen)度(du)。罐體通(tong)常由耐(nai)熱(re)材料(liao)制成，內(nei)(nei)部設(she)有(you)加(jia)熱(re)器和(he)冷(leng)卻(que)器。加(jia)熱(re)器可(ke)以(yi)通(tong)過電熱(re)棒或(huo)加(jia)熱(re)管等方式向罐內(nei)(nei)加(jia)熱(re)，而冷(leng)卻(que)器則通(tong)過循(xun)環(huan)水或(huo)液氮等冷(leng)卻(que)介質來(lai)(lai)(lai)將罐內(nei)(nei)溫(wen)(wen)度(du)降低。它的(de)結(jie)構和(he)使用(yong)方法(fa)相對簡單，但在(zai)(zai)實驗過程(cheng)中需要(yao)注(zhu)意控(kong)制溫(wen)(wen)度(du)的(de)升(sheng)降速度(du)。既可(ke)以(yi)用(yong)來(lai)(lai)(lai)進(jin)行(xing)高(gao)溫(wen)(wen)反應(ying)，又可(ke)以(yi)用(yong)來(lai)(lai)(lai)進(jin)行(xing)低溫(wen)(wen)實驗，為(wei)科(ke)研工(gong)作(zuo)提供了便利。在(zai)(zai)實驗室中有(you)著廣泛(fan)的(de)應(ying)用(yong)。它可(ke)以(yi)用(yong)來(lai)(lai)(lai)進(jin)行(xing)高(gao)溫(wen)(wen)反...
Plasma清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)機(ji)是(shi)一種用于對設備、物(wu)(wu)料進行清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)的(de)(de)機(ji)器。在工業生產(chan)中，由于設備和物(wu)(wu)料的(de)(de)使用，會產(chan)生各(ge)種污(wu)漬和垢層(ceng)，如(ru)果不及時清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)，會影響設備的(de)(de)使用壽命和生產(chan)效(xiao)率(lv)(lv)。清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)機(ji)的(de)(de)出現，實(shi)現了自動(dong)化清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)，減少(shao)了人工操作，提高了清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)效(xiao)率(lv)(lv)和清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)質量。其(qi)工作原理(li)主要分為(wei)以下(xia)幾個(ge)步驟：預(yu)處理(li)：將(jiang)被清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)物(wu)(wu)料放入清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)機(ji)內，進行加熱(re)、蒸(zheng)發等預(yu)處理(li)工作，使污(wu)漬或(huo)垢層(ceng)變得容易被清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)。清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)：將(jiang)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)液(ye)(ye)噴灑到被清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)物(wu)(wu)料上，通過噴淋或(huo)噴射的(de)(de)方式，清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)液(ye)(ye)可以深入物(wu)(wu)料表面，將(jiang)污(wu)漬或(huo)垢層(ceng)清(qing)(qing)除。沖(chong)洗(xi)(xi)(xi)：將(jiang)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)(xi)液(ye)(ye)沖(chong)洗(xi)(xi)(xi)掉，并...
當前位置：
