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產品簡介
小型離(li)子濺射(she)(she)儀/噴金(jin)儀 廠家供應通(tong)過定(ding)時(shi)調節預濺射(she)(she)功(gong)率及薄膜(mo)沉(chen)積功(gong)率，可(ke)對大部分金(jin)屬進行均(jun)勻(yun)物理(li)沉(chen)積，真空腔(qiang)室(shi)為透明石英(ying)玻(bo)璃減少樣(yang)品污染，樣(yang)品臺可(ke)旋轉以獲(huo)得更均(jun)勻(yun)的(de)薄膜(mo)，可(ke)制(zhi)備各種金(jin)屬薄膜(mo)。
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相關文(wen)章(zhang)| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | 50mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子 |
小型離子濺射儀/噴金儀 廠家供應KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。
小型離子濺射儀/噴金儀 廠家供應通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
技術參數；
控制(zhi)方(fang)式 | 7寸人(ren)機界面 手動(dong) 自(zi)動(dong)模式(shi)切換控制 |
濺(jian)射電源(yuan) | 直流濺射電源 |
鍍膜功(gong)能 | 0-999秒5段可變換功率(lv)及擋板位和(he)樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸(shu)出電壓電流(liu) | 電壓(ya)≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(ji)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空(kong) | ≤30Pa |
擋板(ban)類型 | 電控 |
真(zhen)空腔室 | 石英(ying)+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tai) | 可(ke)旋(xuan)轉(zhuan)φ62 （可(ke)安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣(yang)品(pin)濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空測(ce)量 | 皮(pi)拉尼真空計（已安裝 測(ce)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空(kong)接(jie)口 | KF25抽氣口(kou) KF16放氣口(kou) 6mm卡套進氣口(kou) |
公司與國內(nei)高校，科研(yan)(yan)院所有多層次的(de)(de)合(he)(he)作(zuo)關(guan)系，建有開(kai)放實(shi)驗室，相關(guan)領域的(de)(de)教授、工程(cheng)師、博士參與公司產品的(de)(de)研(yan)(yan)究和(he)(he)開(kai)發(fa)。我們秉(bing)承公司的(de)(de)發(fa)展理念，依靠嚴謹的(de)(de)技術(shu)研(yan)(yan)發(fa)能力，科學(xue)合(he)(he)理的(de)(de)生產工藝，精(jing)益(yi)求精(jing)的(de)(de)制造(zao)要求，全心全意做好產品質量和(he)(he)服務工作(zuo)，科探儀器時刻懷(huai)著一顆真(zhen)誠的(de)(de)心期(qi)待與您(nin)的(de)(de)合(he)(he)作(zuo)。
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