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相(xiang)關文(wen)章等離子刻蝕(shi)機(ji)清(qing)(qing)洗(xi)機(ji)用(yong)于(yu)表面清(qing)(qing)洗(xi),活(huo)化,刻蝕(shi)電源屬于(yu)150W 13.56MHz的(de)(de)射頻電源。作(zuo)為(wei)一種精密干法清(qing)(qing)洗(xi)設備,主要(yao)應用(yong)于(yu)半導體、鍍膜工藝、PCB制(zhi)(zhi)程(cheng)、PCB制(zhi)(zhi)程(cheng)、元器(qi)件封裝前、COG前、真空電子、連接器(qi)和繼電器(qi)等行業的(de)(de)精密清(qing)(qing)洗(xi),塑料、橡膠(jiao)、金屬和陶瓷等表面的(de)(de)活(huo)化以(yi)及(ji)生命科(ke)學實驗等。,與動輒十幾萬美元的(de)(de)大型產(chan)品相比小型等離子清(qing)(qing)洗(xi)機(ji)具有成本低廉、操作(zuo)靈活(huo)的(de)(de)特點。
Plasma清洗機(ji),觸摸屏(ping)控制,該(gai)清洗機(ji)內置高純石英倉(cang)體,有效容積為500ml,結(jie)構為國(guo)際上(shang)的(de)通用的(de)真空石英法(fa)蘭密(mi)封結(jie)構。
等(deng)離(li)子(zi)(zi)表(biao)面處理儀廠家直供作為(wei)一(yi)種(zhong)(zhong)微觀固(gu)體(ti)(ti)表(biao)面的(de)處理設(she)設(she)備,是(shi)一(yi)種(zhong)(zhong)全新的(de)表(biao)面處理方案。等(deng)離(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)是(shi)物質的(de)一(yi)種(zhong)(zhong)狀態,也(ye)叫做物質的(de)第四態。對(dui)氣體(ti)(ti)施(shi)加足夠的(de)能量使(shi)之離(li)化便成為(wei)等(deng)離(li)子(zi)(zi)狀態。等(deng)離(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)的(de)“活性(xing)”組分包括:離(li)子(zi)(zi)、電子(zi)(zi)、活性(xing)基團、激發態的(de)核(he)素(su)(亞穩態)、光子(zi)(zi)等(deng)。等(deng)離(li)子(zi)(zi)清洗(xi)機就是(shi)通(tong)過利用這些活性(xing)組分的(de)性(xing)質來處理樣品表(biao)面,從而(er)實現清潔等(deng)目的(de)。
等離子清(qing)洗機鄭州科(ke)探儀器(qi)(qi)(qi)KT-S2DQX,用于表面清(qing)洗,活(huo)化,刻蝕電(dian)源(yuan)屬(shu)于150W 13.56MHz的(de)(de)射(she)頻(pin)電(dian)源(yuan)。作(zuo)為一種(zhong)精(jing)密(mi)干法清(qing)洗設備,主要應用于半導體、鍍膜(mo)工(gong)藝、PCB制(zhi)程(cheng)、PCB制(zhi)程(cheng)、元器(qi)(qi)(qi)件封裝前(qian)、COG前(qian)、真空(kong)電(dian)子、連接器(qi)(qi)(qi)和繼(ji)電(dian)器(qi)(qi)(qi)等行業的(de)(de)精(jing)密(mi)清(qing)洗,塑料(liao)、橡膠、金屬(shu)和陶(tao)瓷等表面的(de)(de)活(huo)化以及生命科(ke)學實驗等
等(deng)(deng)離(li)子(zi)清洗(xi)(xi)機鄭州科探KT-S2DQX小型等(deng)(deng)離(li)子(zi)設備廣泛應用于等(deng)(deng)離(li)子(zi)清洗(xi)(xi)和表面改(gai)性等(deng)(deng)場(chang)合。通過其處理,能(neng)夠改(gai)善(shan)材(cai)料的潤濕(shi)能(neng)力,使多種(zhong)材(cai)料能(neng)夠進行涂覆、鍍等(deng)(deng)操作,增強粘合力、鍵合力,同時去除有機污染(ran)物、油污或(huo)油脂