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產品簡介
小型濺(jian)射(she)儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產品為臺式磁控濺(jian)射(she)鍍膜機，能(neng)夠(gou)在非導(dao)電或導(dao)電不良的樣品上(shang)涂(tu)布金（Au），鈀(ba)（Pd），鉑(bo)（Pt）和(he)金/鈀(ba)（Au / Pd）的薄(bo)膜。 在較短(duan)時間內(nei)即可(ke)形成(cheng)具有(you)細粒(li)度的均勻薄(bo)膜，
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相(xiang)關(guan)文章| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,電氣 |
小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD
離子濺射(she)儀在掃(sao)描電鏡中應用(yong)十分(fen)廣泛，通過向樣品表(biao)面(mian)噴鍍金、鉑、鈀及混合(he)靶材等(deng)金屬(shu)消除不導(dao)電樣品的(de)荷電現(xian)象，并(bing)提高(gao)觀測效率，另外可以使(shi)用(yong)噴碳附件對樣品進行蒸碳，實現(xian)不導(dao)電樣品的(de)能(neng)譜儀元素定性和半定量分(fen)析。
磁控濺射優點
（1）沉(chen)積(ji)速(su)率(lv)(lv)快，沉(chen)積(ji)效率(lv)(lv)高，適合工業(ye)生產(chan)大規模應用；
（2）基片溫度低，適合塑(su)料等不耐高溫的基材鍍膜(mo)；
（3）制(zhi)備的薄膜純度高、致密性(xing)(xing)好、薄膜均勻性(xing)(xing)好、膜基結合(he)力強(qiang)；
（4）可制(zhi)備(bei)金(jin)屬、合(he)金(jin)、氧化物等薄膜；
小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠家供應技術參數；
控制方式 | 7寸人機界(jie)面 手動(dong) 自動(dong)模式切換控制 |
濺(jian)射(she)電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜(mo)功(gong)能 | 0-999秒(miao)5段(duan)可變換功率(lv)及擋板位和樣品速度程序(xu) |
功率 | ≤1000W |
輸(shu)出(chu)電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械(xie)泵(beng) ≤5Pa（5分鐘） 分子泵(beng)≤5*10^-3Pa |
濺射(she)真空(kong) | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空(kong)腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuan)φ62 （可安裝(zhuang)φ50基底(di)） |
樣品臺轉速 | 8轉/分(fen)鐘 |
樣品濺射(she)源調節距(ju)離 | 40-105mm |
真空(kong)測量 | 皮拉尼真空(kong)計（已安(an)裝 測(ce)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yu)留真(zhen)空(kong)接口 | KF25抽(chou)氣(qi)口(kou) KF16放氣(qi)口(kou) 6mm卡套進氣(qi)口(kou) |
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