高溫蒸鍍儀，KT-Z1650CVD，石英＋不銹鋼腔體，觸摸屏(ping)控(kong)制(zhi)，工藝儲存功能(neng)，自動電控(kong)擋板保(bao)護(hu)樣品

在厚度為(wei)2nm (20埃)或更厚時膜是(shi)連續的。通常的沉積形式是(shi)加熱碳(tan)或石墨棒。棒具有特定(ding)的形狀以達(da)到最(zui)大電(dian)流密度，使得它具有足夠(gou)的溫度來引起蒸發。基于(yu)這點，出現(xian)了細小的、亮(liang)的、熱的碳(tan)顆(ke)粒。此系統需要用(yong)擴散泵或渦輪分子(zi)泵達(da)到1x10-4 mbar或更高的真空(kong)度。
渦(wo)輪(lun)分子泵(beng)在K950X中作(zuo)為(wei)標準配置，此泵(beng)作(zuo)為(wei)機械真空(kong)(kong)泵(beng)的后級泵(beng)，真空(kong)(kong)為(wei)全(quan)自動控制，真空(kong)(kong)度優于1x10-5 mbar。可進(jin)行預熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發(fa)開關使脈(mo)沖蒸發(fa)在用戶控制下進(jin)行。
標準的旋(xuan)轉樣(yang)品臺(tai)可進行傾斜調節，非常容易適應各種(zhong)樣(yang)品座。

以下是不(bu)同真(zhen)空度 不(bu)同鍍(du)膜時間(jian)鍍(du)銅樣(yang)品(pin)圖

  原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒 機械(xie)泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘      115A 120秒 分子泵抽20分鐘(zhong)

真空度越高 越不易氧化 越接近金屬(shu)本色

高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD